Fue desarrollado originalmente por Corning
Glass y modificado por los Laboratorios Bell Telephone para su uso
industrial. Utiliza un tubo de cuarzo puro de donde se parte y es depositado en
su interior la mezcla de dióxido de silicio y aditivos de dopado en forma de
capas concéntricas. A continuación en el proceso industrial se instala el tubo
en un torno giratorio. El tubo es calentado hasta alcanzar una temperatura
comprendida entre 1.400 °C y 1.600 °C mediante un quemador de hidrógeno
y oxígeno. Al girar el torno el quemador comienza a desplazarse a lo largo del
tubo. Por un extremo del tubo se introducen los aditivos de dopado, parte
fundamental del proceso, ya que de la proporción de estos aditivos dependerá el
perfil final del índice de refracción del núcleo. La deposición de las
sucesivas capas se obtienen de las sucesivas pasadas del quemador, mientras el
torno gira; quedando de esta forma sintetizado el núcleo de la fibra óptica. La
operación que resta es el colapso, se logra igualmente con el continuo
desplazamiento del quemador, solo que ahora a una temperatura comprendida entre
1.700 °C y 1.800 °C. Precisamente es esta temperatura la que
garantiza el ablandamiento del cuarzo, convirtiéndose así el tubo en el
cilindro macizo que constituye la preforma. Las dimensiones de la preforma
suelen ser de un metro de longitud útil y de un centímetro de diámetro
exterior.
- V.A.D Vapor Axial Deposition
Su funcionamiento se basa en la técnica
desarrollada por la
Nippon Telephone and Telegraph (N.T.T), muy utilizado en Japón por compañías dedicadas a la
fabricación de fibras ópticas.La materia prima que utiliza es la misma que el método
M.C.V.D, su diferencia con este radica, que en este último solamente se
depositaba el núcleo, mientras que en este además del núcleo de la FO se deposita el
revestimiento. Por esta razón debe cuidarse que en la zona de deposición axial
o núcleo, se deposite más dióxido de germanio que en la periferia, lo que se
logran a través de la introducción de los parámetros de diseño en el software
que sirve de apoyo en el proceso de fabricación. A partir de un cilindro de
vidrio auxiliar que sirve de soporte para la preforma, se inicia el proceso de
creación de esta, depositándose ordenadamente los materiales, a partir del
extremo del cilindro quedando así conformada la llamada "preforma
porosa".Conforme su tasa de crecimiento se va desprendiendo del cilindro
auxiliar de vidrio. El siguiente paso consiste en el colapsado, donde se somete
la preforma porosa a una temperatura comprendida entre los 1.500 °C y
1.700 °C, lográndose así el reblandamiento del cuarzo. Quedando convertida
la preforma porosa hueca en su interior en el cilindro macizo y transparente,
mediante el cual se suele describir la preforma.
Entre sus ventajas, comparado con el método
anterior (M.C.V.D) permite obtener preformas con mayor diámetro y mayor
longitud a la vez que precisa un menor aporte energético. Como inconveniente se
destaca como uno el de mayor cognotación, la sofisticación que requiere en
equipo necesarios para su realización.
- O.V.D Outside Vapor Deposition
Desarrollado por Corning Glass Work.Parte
de una varilla de substrato cerámica y un quemador. En la llama del quemador
son introducidos los cloruros vaporosos y esta caldea la varilla. A
continuación se realiza el proceso denominado síntesis de la preforma, que
consiste en el secado de la misma mediante cloro gaseoso y el correspondiente
colapsado de forma análoga a los realizados con el método V.A.D, quedando así
sintetizados el núcleo y revestimiento de la preforma.
Entre las Ventajas, es de citar que las tasas de
deposición que se alcanzan son del orden de 4.3g / min,
lo que representa una tasa de fabricación de FO de 5km
/ h, habiendo sido eliminadas las pérdidas iniciales en el paso
de estirado de la preforma. También es posible la fabricación de fibras de muy
baja atenuación y de gran calidad mediante la optimización en el proceso de
secado, porque los perfiles así obtenidos son lisos y sin estructura anular
reconocible.
- P.C.V.D Plasma Chemical Vapor Deposition
Es desarrollado por Philips, se
caracteriza por la obtención de perfiles lisos sin estructura anular
reconocible. Su principio se basa en la oxidación de los cloruros de silicio y
germanio, creando en estos un estado de plasma, seguido del proceso de
deposición interior.
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